Structural relaxation related to resistance drift in amorphous GeTe thin films
1 : LNCMI (CNRS, Université Grenoble Alpes, UPS, INSA),
* : Auteur correspondant
LNCMI (CNRS, Université Grenoble Alpes, UPS, INSA)
25 rue des Martyrs, F 38042 Grenoble -
France